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日本電子JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡

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廣受好評的JSM-7610F的光學系統經過改進,實現了分辨率(15kV 0.8nm、1kV 1.0nm)的進一步提升,以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統,能提供穩定的高空間分辨率觀察和分析。

此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進行低加速電壓觀察、通過r-filter分選信號等滿足各種需求的高擴展性。主要特點如下:


◇ 半浸沒式物


半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場,因而可以獲得高分辨率。


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◇ High Power Optics

High Power Optics 是電子光學系統,既實現了高倍率觀察又能進行多種分析。

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浸沒式肖特基場發射電子槍,可以獲得10 倍于傳統肖特基發射電子槍(FEG)的探針電流,光闌角控制鏡(ALC)在探針電流增大時也能保持小束斑,兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。強大的High Power Optics 系統,高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的小物鏡光闌而不需要改換。


浸沒式肖特基場發射電子槍銃   

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浸沒式肖特基場發射電子槍通過和低像差聚光鏡組合,可有效地收集從電子槍內發射的電子。


光闌角控制鏡(ACL)

光闌角控制鏡(ACL)配置在物鏡的上方,在整個探針電流范圍內自動優化物鏡光闌的角度。因此,即使照射樣品的探針電流很大,與傳統方式相比,也能獲得很小的電子束斑。

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即使探針電流很大,束斑直徑也很小


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長時間分析時穩定度也很高


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◇ 柔和電子束(GB:GENTLEBEAMTM)模式


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GB 模式的效果


GB 模式在低電壓下提高分辨率

左圖一般模式,右圖GB模式


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增強了的低加速電壓下的分辨率


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◇ r-過濾器


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◇ LABE檢測器(選配件)


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利用LABE 檢測器獲取低角度背散射電子像


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◇ 擴展性


能譜儀(EDS)


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波譜儀(WDS)


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陰極熒光系統(CL)


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二次電子像分辨率 0.8 nm(加速電壓 15 kV),1.0 nm(加速電壓 1 kV )
分析時 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA )
倍率 Direct magnification:  x25 to 1,000,000(120 x 90 mm)
Display magnification:  x75 to 3,000,000(1,280 x 960 pixels)
加速電壓 0.1~30 kV
探針電流 數 pA ~ 200 nA
電子槍 浸沒式肖特基場發射電子槍
透鏡系統 聚光鏡(CL)、  光闌角控制鏡(ACL)、  半浸沒式物鏡(OL)
樣品臺 全對中測角樣品臺、5軸馬達驅動
電子檢測器系列 高位檢測器、 r‐過濾器 內置、  低位檢測器
自動功能 自動聚焦、自動消象散、自動亮度/襯度調節
圖像觀察用 屏幕尺寸 23英寸寬屏
液晶顯示器  max分辨率 1,920 × 1,080像素
抽真空系統 電子槍室/中間室 SIP 離子泵
樣品室 TMP 分子泵

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