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聚光E5000電弧直讀發射光譜儀

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E5000發射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析精準、穩定性好等優點。作為粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發射光譜儀,E5000發射光譜儀擁有高功率數控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩定可靠的全譜分光系統以及陣列CCD全譜測量技術,同時,E5000發射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等技術,采用固體樣品直接進樣的方法,全面解決了傳統技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題。

E5000發射光譜儀產品結構設計
  電弧發射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合,一代固體粉末分析技術;
  Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統,能測定需要分析的所有常規元素;
  緊湊的小型臺式設計,確保穩定可靠、易用便捷;
  防溢出CCD高速數采系統,信噪比高、動態范圍大;
  高功率數控可編程光源,電流、電壓、頻率可控,提供更優的分析方法;
  多重連鎖和監控,確保操作安全可靠;
  全自動電極激光對準系統;
  粉末樣品直接進樣,方便迅速;
  一鍵激發,立刻獲得分析結果;
  內置工作曲線,客戶無需手動建線,切實提高工作效率;
  軟件開放所有高級功能,為客戶提供完美的方法開發平臺。
E5000發射光譜儀全譜測量技術
  全譜平臺擁有豐富的譜線信息,更易于元素擴展與方法開發;
  基于全譜測量的數據,能夠正確區分背景和譜線,有效提高測量精度;
  - 方便查看譜線及干擾情況
  - 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
  強大的自動譜線去干擾算法;
  - 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線
  - 基于全譜測量數據的多峰擬合技術可將譜線完全分開,有效消除譜線的干擾
  根據元素的含量范圍選擇不同的分析譜線,大含量范圍的測量更準確;
  - 多譜線結合,擴展分析范圍的同時,有效保證分析精度;
  - 避免靈敏線飽和,不需要消釋樣品,取得更大的分析范圍;
CCD高速數采系統
  防溢出線陣CCD;
  采用動態積分,有效擴展CCD的動態范圍;
Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統
  恒溫型全固定光學系統;
  全反射式光路;
  光室結構緊湊;
  一體式固定;
  光學器件少,性能穩定;
  基于CCD的全譜采集和分析;
全新一代電弧數控光源
  數控光源體積小、效率高;
  基于數控可編程技術,光源的電流、電壓、頻率可調節;
  分析不同含量的元素,選擇激發參數,降低元素分析的檢出線,改善元素分析的準確度;
  可設置及讀取不同檢測階段的數據;
一鍵激發及全自動對準電極
  樣品裝載激發一氣呵成,方便快捷;
  多元素同時分析,直接得到終結果;
  設計精良的電極挾持旋鈕;
  紅外激光對準、電極激光自動對準技術;
  水冷電極夾提高檢測穩定性;
多重連鎖和安全保護
  可靠的水冷系統,分別對電弧光源和激發電極散熱;
  實時監控儀器的運行狀態,所有的連鎖狀態如冷卻水、排風、炬室門等都通過界面和指示燈等多種形式直接提醒;
  界面上有關鍵溫度的顯示,可以及時查看儀器的運行情況;
  排風監控,消除廢氣影響;
  特殊的風道設計提高穩定性;
水冷系統 
強大的分析軟件
  便捷易用的分析軟件;
  - 操作直觀、便捷、層次化的軟件界面,非專業人員也能方便操作
  - 簡單的方法開發過程,各種檢測條件都可調節
  強大的多元素分析平臺;
  - 便捷的全譜查看
  - 多元素分析及多譜線選擇
  - 一鍵激發,直接在軟件上得到分析結果
  - 豐富的方法庫有利于方法的傳承、學習和維護
可分析元素及多譜線選擇
  全面智能的軟件算法;
  - 內置工作曲線,完善的時序分析,能夠實現定性、定量分析
  - 豐富的處理技術,支持內標法、基底扣除、干擾元素校正等分析方法
  - 功能強大的高級處理功能,為客戶帶來更全面、更精確的分析體驗
  - 智能漂移校正技術。
光學系統 Paschen-Runge(帕型-尨格)全譜光學系統
波長范圍:190nm~680nm
多陣列式的高性能CCD檢測器,具有深紫外檢測能力
恒溫式全固定光學系統,無任何運動部件
激發光源 可編程數控電弧光源
電流、電壓、頻率可控,為不同分析目標提供激發參數
水冷式的激光自動對準的光源系統
數采系統 基于 DSP 和 FPGA 技術的高速數據采集及控制功能
時序分析技術,實現更優化元素含量測量
高速以太網數據傳輸
電源和環境要求 AC 220V±20V,50Hz
待機平均功率 100VA
工作穩定:10℃~30℃
工作濕度:20%~80%
尺寸和重量 尺寸:770mm ×625mm×520mm
重量:約80kg
選配件 循環冷卻水裝置
交流參數穩壓器
光譜純石墨電極
主流配置品牌電腦
激光打印機
應用領域
  鑄造、冶金、機械加工、消防、航空航天、金屬加工、金屬材料質量鑒定、新材料開發等